氟化球基础
2023-02-25 23:25:22
0
2248.91万吨，平均品位33.91%；深部和外围仍有很大的资源潜力，初步估计整个矿区的矿产量（CaF2）可达5000万吨；可选性试验表明，精矿回收率达到80.17%，精矿CaF 2品位达到99.2%
萤石作为重要的基础原料，广泛应用于新能源、新材料等战略性新兴产业，以及国防、化工、冶金、建材等领域。
清洗设备。三氟化氮可以单独使用或与其它气体组合使用作为用于等离子体工艺的蚀刻气体，例如用于蚀刻硅化合物MoSi2的NF3、NF3/Ar、NF3/He；NF 3/CCl4和NF 3/HCl用于MoSi2和NbSi2的蚀刻。
三氟化氮是微电子工业中一种优秀的等离子蚀刻气体，蚀刻硅和氮化硅，使用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧的混合气体具有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面没有污染，特别是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性，不会在被蚀刻物体表面留下任何残留物，也是一种非常好的清洗剂。三氟化氮的制备方法主要有两种：直接法和氟化二铵熔盐电解法。四氟甲烷、气象（示踪分析）、化工等行业和领域。由于六氟化硫具有优异的防色性能和减弧能力，工业级六氟化硫广泛应用于输配电和控制设备行业，包括气体绝缘开关柜、断路器、高压变压器、绝缘输电管道、高压开关、气体密封组合电容器、变压器等。是继第一代空气和第二代油之后的第三代绝缘介质。电子级六氟化硫主要用于半导体和面板晶体器件生产过程中的蚀刻和清洗。它具有用量低、纯度高、对生产和使用环境的清洁度要求高、产品更新快的特点。只有少数国内制造商有生产能力。